仪器

cBot上 簇生成

测序仪器上簇生成

每个循环的时间（分钟）

模板构建暂停时间**

双端测序反转时间

快速清洗/手动或者维护清洗（分钟）

iSeq 100

N/A

5小时

2.2

N/A

52 分钟

无需清洗

MiniSeq

N/A

90分钟

3.5

测序继续

60 分钟

20 / 75

MiSeq v2

N/A

60分钟

4.5
(Micro = 3 Nano = 2.5)

测序继续

31 分钟

运行后清洗20分钟，模板管路清洗30分钟，维护清洗90分钟

MiSeq v3

N/A

70分钟

6

测序继续

50 分钟

运行后清洗20分钟，模板管路清洗30分钟，维护清洗90分钟

NextSeq 500/550

N/A

2.5小时

4.6

测序继续

60 分钟

20 / 90

NextSeq 1000/2000 P1

N/A

3.75小时

2.5

N/A

40 分钟

可选择性清除试剂：1.5小时

NextSeq 1000/2000 P2

N/A

4小时

3.5

N/A

40 分钟

可选择性清除试剂：1.5小时

NextSeq 1000/2000 P3

N/A

4小时

5

N/A

45 分钟

可选择性清除试剂：3小时

HiSeq 2500
RRv2 OBCG*

N/A

1.5小时

7

1.5 - 2 小时

1 小时

15 / 60

HiSeq 2500
RRv2 w/ cBot

1 小时
(只传递模板，没有进行桥式扩增)

1.5小时

7

1.5 - 2 小时

1 小时

15 / 60

HiSeq 2500
TruSeq v3

< 5 小时

N/A

53
67 （如果同时运行两张芯片）

4 - 8 小时

4.5 小时

20（清洗限于位置1-8）或者
60 / 130

HiSeq 2500
HiSeq v4

2 小时

N/A

19
30 （如果同时运行两张芯片）

5 - 6 小时

3 小时

20（清洗限于位置1-8）或者
60 / 130

HiSeq
3000/4000

双端3小时

单端4小时

N/A

12^#
16^# （如果同时运行两张芯片）

N/A

2.5 小时

20（清洗限于位置1-8）或者
60 / 130

HiSeq X v2.5

3小时

N/A

12^#

N/A

2.5 小时

20（清洗限于位置1-8）或者
60 / 130

NovaSeq 6000

N/A

130^¤分钟

SP/S1 = 3.5
S2 = 5
S4 = 6.75

N/A

48 分钟

运行后清洗20分钟，维护清洗80分钟

NovaSeq X/X Plus

N/A

4.6小时

B10 = 2.8

N/A

50 分钟

运行后清洗110分钟，维护清洗180分钟